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Photoluminescence And Electroluminescence characteristics testing of InGaN/GaN Quantum Well

InGaN/GaN量子阱光致發(fā)光和電致發(fā)光特性的測(cè)試!


從上世紀(jì)90年代初開(kāi)始,世界范圍內(nèi)掀起了研究高亮度LED的熱潮,以它為基礎(chǔ)的固體照明正在迅猛發(fā)展。因?yàn)楦吡炼萀ED采用雙異質(zhì)結(jié)構(gòu),要求材料具有良好的晶格匹配,這個(gè)要求對(duì)用于異質(zhì)結(jié)LED的材料體系提出了嚴(yán)格的限制。 Ⅲ-Ⅴ族氮化物半導(dǎo)體材料,擁有優(yōu)良的光電性質(zhì),化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定,可在?高溫、酸堿、輻射環(huán)境下使?用,并且禁帶寬度大,因此在大功率的電子器件方面頗具吸引力,已引起了國(guó)內(nèi)外眾多研究者的興趣。人們感興趣的Ⅲ-Ⅴ族氮化物是AIN、GaN、InN及其合金,通過(guò)控制它們各自的組份,其禁帶寬度可從InN的0.7eV到GaN的3.4eV直到AlN的6.2eV連續(xù)變化,覆蓋了整個(gè)可見(jiàn)光區(qū),并擴(kuò)展到紫外范圍,適合制備高亮度LED。

 

本文測(cè)試了InGaN/GaN多量?子阱室溫下的發(fā)光性能。InGaN/GaN樣品材料由King AbdullahUniversity of Science and Technology提供的基于藍(lán)寶石襯底 MOCVD 生長(zhǎng)的 InGaN GaN 量子阱,

 

光譜測(cè)量設(shè)備采用的是卓立漢光公司自行組建的OmniPL組合式光致發(fā)光和電致發(fā)光測(cè)量系統(tǒng)。
 


 

測(cè)試原理

當(dāng)用大于半導(dǎo)體材料禁帶能量的激發(fā)光源照射到該半導(dǎo)體材料表面時(shí),就使半導(dǎo)體中電子從價(jià)帶躍遷至導(dǎo)帶,在其表面會(huì)產(chǎn)生過(guò)剩的非平衡載流子即電子-空穴對(duì)。它們通過(guò)不同的復(fù)合機(jī)構(gòu)進(jìn)行復(fù)合,產(chǎn)生光發(fā)射。溢出表面的發(fā)射光經(jīng)會(huì)聚進(jìn)入單色儀分光,然后經(jīng)探測(cè)器接受并放大,得到發(fā)光強(qiáng)度按光子能量分布的曲線,即光致發(fā)光譜。
 

實(shí)驗(yàn)設(shè)備

OmniPL組合式光致發(fā)光和電致發(fā)光測(cè)量系統(tǒng),包含30mWHeCd激光器325nm,Omni-λ500i影像校正光譜儀和PMT,探針樣品臺(tái)等部件,基于客戶(hù)的要求,本次系統(tǒng)采?用的空間光路搭建方案。
 


 

實(shí)驗(yàn)結(jié)果

1. 光致發(fā)光(PL)光譜測(cè)量分別針對(duì)材料的正極(紅色)和負(fù)極(綠色)測(cè)試得到光致發(fā)光光譜曲線如下,GaN的本征發(fā)光峰365nm附近以及黃帶,InGaN的發(fā)光峰475nm附近。
 


 

2. 電致發(fā)光(EL)光譜測(cè)量

將材料的接到直流電源的正負(fù)極,電壓加到2.5V時(shí)可以有明顯的藍(lán)光發(fā)射,測(cè)量其電致發(fā)光光譜曲線如下(紅色),峰值在475nm附近。(綠色曲線為另一個(gè)樣品ZnO的PL譜)!
 


 

結(jié)論:

OmniPL組合式光譜測(cè)量系統(tǒng)可以非常方便快捷的進(jìn)行PL/EL的測(cè)試,是一款性?xún)r(jià)比非常高的系統(tǒng);根據(jù)實(shí)際測(cè)試的需求,用戶(hù)不僅可以選擇空間光路,還可以選擇顯微光路,選裝低溫測(cè)量系統(tǒng),選裝PLmapping測(cè)試附件等,擴(kuò)展測(cè)量功能,在InGaN/GaN材料研究測(cè)試中發(fā)揮重要的作用。

 

(詳細(xì)信息請(qǐng)來(lái)電咨詢(xún):13911652212 張經(jīng)理)