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精密對位技術(shù)在微型機(jī)械、超精密加工、半導(dǎo)體以及光學(xué)等領(lǐng)域具有重要的地位并有著十分廣泛的應(yīng)用前景。就像人看到帽子戴歪了并伸手調(diào)整一樣,精密對位技術(shù)也需要檢測與調(diào)整兩個步驟。近些年,得益于超高分辨率攝像機(jī)等檢測技術(shù)的發(fā)展與普及,我們已經(jīng)可以以較低的價格獲取到我們需要的偏差檢測能力,完成了看的動作,而調(diào)的動作則需要交給本文的主角-高精度對位平臺來解決。

對位平臺最早是源自于德國,采用的方式是用pin針撥動有著磁力推桿的frame,讓上方不動的玻璃得以和下方的框架結(jié)合,到了日本則被改為以電的三向UVW來命名的UVW平臺,然后以此為藍(lán)本,工程師再將其縮小,并大大地降低了高度,組合出了現(xiàn)在??吹降腦XY形式的對位平臺。原始的磁力推桿也進(jìn)化到以線性導(dǎo)軌甚或交叉滾柱組裝的單體模組,以及由三軸電機(jī)甚或四軸電機(jī)帶動的高精度對位平臺。

目前對位平臺的應(yīng)用,主要在高速、高精度需求的產(chǎn)業(yè),例如半導(dǎo)體業(yè)的晶圓切割、封裝檢測、PCB制造業(yè)的曝光機(jī)、網(wǎng)印機(jī)、貼合機(jī)、壓合機(jī)、PCB板裁切、絲印、手機(jī)制造業(yè)、LCD/LED面板制造業(yè),光學(xué)檢測等。

對位平臺目前主流有如下三種結(jié)構(gòu):

  • XYθ對位平臺:就是以一組X向,一組Y向的模組,疊加起來,在上方安置一個旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),成為一個XYθz對位平臺,一般精度比較低
  • XYR對位平臺:又稱XXY、UVW對位平臺,屬于三軸并聯(lián)運(yùn)動機(jī)構(gòu)。就是以兩組X電動模組,一組Y向的電動模組,疊加起來,通過3個線性移動軸的并聯(lián)運(yùn)動實現(xiàn)XY 兩軸線性運(yùn)動和θz 軸旋轉(zhuǎn)運(yùn)動,精度比前者要高得多,當(dāng)然,成本也要高一些。
  • XXYY對位平臺:顧名思義就是二個X軸向電動模組,以及二個Y軸向電動模組組成的XXYY對位平臺,精度,對位速度,機(jī)體的剛性都是相對上項各種產(chǎn)品中較高,制造難度也較大的,成本也是最高的。

基于成本和實現(xiàn)的雙重考慮,XYR對位平臺占據(jù)著極高的市場地位,也是本文的介紹對象。

工作原理:

結(jié)構(gòu)介紹;以我司主流型號XYR300400為例,XYR對位平臺由上臺面、下底面及中間的四套模組構(gòu)成,每套模組均采用交叉滾柱導(dǎo)軌和交叉滾子軸承導(dǎo)向,帶驅(qū)動模組(3套)采用小導(dǎo)程滾珠絲杠驅(qū)動,標(biāo)配步進(jìn)電機(jī),也可換裝五相步進(jìn)電機(jī)或伺服電機(jī)。

XYR300400結(jié)構(gòu)示意圖

    XYR對位平臺通常由上臺面、下底面和中間的四個模組構(gòu)成,從模組分布的結(jié)構(gòu)上分為:對稱結(jié)構(gòu)和非對稱結(jié)構(gòu),而對稱結(jié)構(gòu),又可分為“十字形對稱結(jié)構(gòu)”和“四角形對稱結(jié)構(gòu)”等。非對稱結(jié)構(gòu)通常用在超薄型或者客戶定制的需求中,而且通常中間不能設(shè)計通孔,所以在一些特定情況下使用。而對稱結(jié)構(gòu)在運(yùn)動算法方面比較通用,而且對位平臺中心位置可以設(shè)計通孔,一定程度上可以滿足透射式和反射式的對位需求,故被廣泛采用。對稱結(jié)構(gòu)中的四角形分布,其剛性和可擴(kuò)展能力更強(qiáng),所以我司的對位平臺更多地采用四角對稱平臺。

算法簡述:

影響到對位平臺運(yùn)動算法的因素主要有兩個:一個是對位平臺的整體結(jié)構(gòu)(四角形對稱結(jié)構(gòu)、十字形對稱結(jié)構(gòu)、非對稱結(jié)構(gòu)),另一個是模組中X軸、Y軸、θz 軸的組合方式。

對位平臺整理結(jié)構(gòu)

 

我司對位平臺一般采用四角對稱結(jié)構(gòu)、模組為側(cè)面驅(qū)動、模組內(nèi)部組成方式為X+Y+θz。

下一章,我們將采用由淺入深的方式講解對位平臺的算法,其他模式的對位平臺亦可參考其算法思想。