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基于超寬禁帶氧化鎵半導(dǎo)體的日盲探測器研究分享

尋求更寬的禁帶寬度和更高的材料性能是化合物半導(dǎo)體材料發(fā)展的一個重要趨勢。氧化鎵(Ga2O3)半導(dǎo)體具有禁帶寬度大(Eg~4.8 eV)、擊穿場強高(Ebr~8 MV/cm)、Baliga品質(zhì)因數(shù)高(εμEbr3~3444)、生長成本低(可熔融法生產(chǎn)單晶襯底)等突出優(yōu)點,是用于下一代高壓高功率器件(肖特基勢壘二極管(SBD)、金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET))和日盲紫外(波長200−280 nm)光電探測器的優(yōu)選材料之一。高壓高功率器件在整個電能供應(yīng)鏈中具有顯著的功率變換及節(jié)能作用,在工業(yè)控制、4C產(chǎn)業(yè)(計算機、通信、消費類電子、汽車電子)、新能源、軌道交通、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域的應(yīng)用也十分廣泛。日盲紫外光電探測器同樣具有廣泛的應(yīng)用價值,可用于紫外(UV)天文學(xué)、天際通信、火災(zāi)監(jiān)控、汽車發(fā)動機監(jiān)測、氣象監(jiān)測和環(huán)境污染監(jiān)測等領(lǐng)域。目前國際上對超寬禁帶氧化鎵材料和器件領(lǐng)域的研究正處于起步階段。

 

中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)微電子學(xué)院龍世兵課題組主要從事寬禁帶半導(dǎo)體材料,器件以及電路系統(tǒng)研究,包括Ga2O3 SBD、MOSFET功率器件,以及深紫外光電探測器,在這些方面都取得了較好的研究進展。在本系列中,我們將為大家展示課題組在基于氧化鎵的日盲探測器領(lǐng)域的研究進展。研究結(jié)果有:
 

1、開發(fā)出了一種具有高性能和柵極可調(diào)光檢測能力的非晶氧化鎵日盲場效應(yīng)光電晶體管。采用磁控濺射這種方法可以在Si基襯底上生長低成本、大面積的非晶氧化鎵薄膜。通過對制備的薄膜晶體管施加適當(dāng)?shù)谋硸烹妷?,可以很好地控制場效?yīng)光電晶體管的暗電流和光響應(yīng)特性。制成的氧化鎵薄膜場效應(yīng)光電晶體管具有出色的深紫外光電探測特性,包括4.1×103 A/W的高光敏性, 2.5×1013Jones的高探測率。并首次基于非晶氧化鎵探測器作為單像素實現(xiàn)日盲成像,使得該日盲非晶氧化鎵薄膜場效應(yīng)光電晶體管有望用于下一代光電成像應(yīng)用。(Adv. Electron. Mater. 2019, 5(7), 1900389) 此外,該課題組進一步開發(fā)了基于非晶氧化鎵探測器的集成技術(shù),制備了32×32的大規(guī)模陣列,用于日盲成像,相關(guān)成果正在審稿階段。
 

 

2、目前報道的氧化鎵深紫外探測器主要是兩端結(jié)構(gòu)器件,而兩端器件不能對溝道電流還有光電響應(yīng)度提供任何的偏壓控制。作為一種重要類型的探測器,光電晶體管多了一個柵極,可以靈活地控制溝道電流。此外,光電晶體管在在夾斷狀態(tài)通常有高的光-暗電流比,因此,如果能獲得增強型MOSFET將會很有利,這將拓寬日盲光電晶體管的有效操作窗口。龍世兵課題組提出在通過MBE生長的硅摻雜同質(zhì)β-Ga2O3薄膜上制備增強型日盲金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)光電晶體管(MOSFEPT)。采用了柵槽刻蝕工藝實現(xiàn)增強型器件。由于晶體管存在巨大的內(nèi)增益以及良好的晶體質(zhì)量,該工作報道的氧化鎵日盲探測器具備高的綜合性能,3×103A/W的響應(yīng)度,低至100/30ms的上升/下降時間,1.3×1016Jones的探測率,以及1.1×106的PDCR。(IEEE Electron Device Lett., 2019, 40(5), 742-745)

 


3、通過氯化物輔助MOCVD,調(diào)節(jié)生長過程中通入HCl的流量,我們在c面藍寶石襯底上成功地生長出了高質(zhì)量單晶ε-Ga2O3薄膜。通過優(yōu)化器件結(jié)構(gòu),該課題組設(shè)計了叉指型的平面型肖特基二極管,器件表現(xiàn)出優(yōu)異的光探測性能,可同時實現(xiàn)高響應(yīng)度(84A/W)和快速響應(yīng)(100ms)。氯化物輔助生長可鈍化深能級缺陷,提高了載流子的遷移率和收集效率。(IEEE Electron Device Lett., 2019, 40(9), 1475-1478) 

 

4、針對上述ε-Ga2O3探測器的高響應(yīng)度,該課題組制備了MSM結(jié)構(gòu)的光探測器,通過研究電流傳輸機制以及原理計算,揭示了器件中的光電流增益機制。氧空位作為類受主缺陷,會捕獲光生空穴,引起空穴積累,從而降低了金屬/半導(dǎo)體接觸勢壘,導(dǎo)致光電流增益。(ACS Photonics, 2020, 7,3, 812-820)

 

中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)龍世兵教授課題組簡介
 

    課題組主要從事寬禁帶半導(dǎo)體氧化鎵材料的生長,器件開發(fā),包括電力電子器件以及紫外探測器件,功率器件模組以及成像系統(tǒng)的開發(fā)。主要期望通過優(yōu)化器件結(jié)構(gòu)的設(shè)計,以及完善工藝開發(fā),制備更高性能的功率器件和深紫外探測器件,實現(xiàn)更高的擊穿電壓,更低的導(dǎo)通電阻,更高的響應(yīng)度和更快的響應(yīng)速度等。截止目前,龍世兵教授主持國家自然科學(xué)基金、科技部(863、973、重大專項、重點研發(fā)計劃)、中科院等資助科研項目15項。在Adv. Mater., ACS Photonics,IEEE Electron Device Lett.等國際學(xué)術(shù)期刊和會議上發(fā)表論文100余篇,SCI他引6300余次,H指數(shù)44。獲得/申請 100余項,其中9項轉(zhuǎn)移給集成電路制造企業(yè)中芯國際,74項授權(quán)/受理發(fā)明 許可給武漢新芯。

本研究應(yīng)用了北京卓立漢光儀器有限公司SCS10-PEC光電化學(xué)電池量子效率測試系統(tǒng)如需了解該產(chǎn)品,歡迎咨詢我司。

 
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