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RTS2-Omni-Imager 暗場散射顯微高光譜儀

RTS2-Omni-Imager 暗場散射顯微高光譜儀是卓立漢光全新推出一款套暗場散射高光譜系統(tǒng)。該系統(tǒng)以暗場散射高光譜為主，可集成穩(wěn)態(tài)/ 瞬態(tài)熒光、拉曼光譜技術(shù)于一身，突破單類別光譜儀器適用性上的局限，為高端科研用戶提供一套以全新設(shè)計(jì)理念實(shí)現(xiàn)的快速、綜合、原位、相關(guān)四位一體集成化光譜測量識別系統(tǒng)

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RTS2-Omni-Imager 暗場散射顯微高光譜儀圖冊

產(chǎn)品概述

產(chǎn)品概述

暗場顯微技術(shù)采用

暗場顯微技術(shù)采用光學(xué)顯微鏡結(jié)合特殊的照明和觀察方式，使得只有樣品散射的信號能夠進(jìn)入物鏡并被探測到，利用這個(gè)方法可以看見突破衍射極限的微粒子。暗場顯微技術(shù)可克服常規(guī)光學(xué)顯微（明場照明成像）針對均一樣品中的微小結(jié)構(gòu)成像時(shí)，透射或反射襯度不足的問題，使得微小的結(jié)構(gòu)在背景中得以突出呈現(xiàn)，特別適合顆粒、纖維、小尺度界

面等的觀測。

高光譜成像（Hyperspectral Imaging, HSI）是指具有高光譜分辨率的遙感科學(xué)和技術(shù)，借助成像光譜儀，能在紫外、可見光、近紅外和中紅外區(qū)域、獲取許多非常窄且光譜連續(xù)的圖像數(shù)據(jù)，為每個(gè)像元提供數(shù)十至數(shù)百個(gè)窄波段（通常波段寬度 <10nm）光譜信息，能產(chǎn)生一條完整而連續(xù)的光譜曲線。
成像光譜儀每次成目標(biāo)上一條線的像，并分光使每個(gè)光譜成分對應(yīng)線陣上的一個(gè)像素點(diǎn)。因此，每一幅來自光譜相機(jī)的圖像結(jié)構(gòu)包括一個(gè)維度（空間軸）上的線陣像素和在另一個(gè)維度（光譜軸）上的光譜分布（光在光譜元素的強(qiáng)度），實(shí)現(xiàn)“圖譜合一”。

采用擁有自主**技術(shù)的焦平面掃描成像技術(shù)，通過內(nèi)置運(yùn)動(dòng)掃描成像和調(diào)焦的精密電控平臺(tái)結(jié)構(gòu)分別實(shí)現(xiàn)圖像的獲取和焦距景深的調(diào)整。

高光譜成像原理圖

暗場顯微高光譜成像系統(tǒng)可以集暗場散射、瞬態(tài)熒光、拉曼光譜等技術(shù)于一體，基于推掃式的快速光譜成像特點(diǎn)，數(shù)據(jù)立方體的采集時(shí)間 10s~1min 間（考慮相機(jī)參數(shù) ：相機(jī)像素、曝光時(shí)間、幀頻、信號強(qiáng)弱等因素），保證不穩(wěn)定樣品在短時(shí)間內(nèi)被快速測量并分析，實(shí)現(xiàn)對納米材料的軌跡追蹤，對運(yùn)動(dòng)規(guī)律和物性變化進(jìn)行實(shí)時(shí)分析。

針對大尺寸樣品，可以通過加配自研外置的精密電控二維掃描平臺(tái)并借助分光和探測模組等實(shí)現(xiàn)對目標(biāo)的 Mapping掃描，且自動(dòng)完成每條航帶的自動(dòng)拼接修正，從而得到大尺寸的單層影像。如借助內(nèi)置自動(dòng)調(diào)焦維度的運(yùn)動(dòng)控制結(jié)構(gòu)，

可以實(shí)現(xiàn)不同層析間的原位成像檢測或者 Mapping 掃描。實(shí)現(xiàn)大尺寸、多維度、原位及層析間的成像應(yīng)用。

產(chǎn)品介紹

RTS2-Omni-Imager 暗場散射顯微高光譜儀是北京卓立漢光儀器有限公司全新推出一款套暗場散射高光譜系統(tǒng)。該系統(tǒng)以暗場散射高光譜為主，可集成穩(wěn)態(tài) / 瞬態(tài)熒光、拉曼光譜技術(shù)于一身，突破單類別光譜儀器適用性上的局限，為高端科研用戶提供一套以全新設(shè)計(jì)理念實(shí)現(xiàn)的快速、綜合、原位、相關(guān)四位一體的集成化光譜測量識別系統(tǒng)。

系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，具有良好的拓展性，滿足不同應(yīng)用場景需求。采用線推掃成像替代傳統(tǒng)點(diǎn)掃描光譜成像，掃描速度快，在數(shù)分鐘內(nèi)對視野范圍內(nèi)樣品進(jìn)行反射光譜、熒光光譜和暗場散射光譜信號做高光譜掃描，獲取樣品的圖像和光譜信息。具備高靈敏度、高準(zhǔn)確度等優(yōu)勢

典型應(yīng)用場景：

• 量子點(diǎn)暗場散射

• 納米材料科學(xué)

• 生物科學(xué)

• 偽裝識別

• 藥品醫(yī)學(xué)

系統(tǒng)配置和關(guān)鍵部件

如同一般的微區(qū)光譜系統(tǒng)，暗場散射光譜可通過暗場顯微鏡（透射照明需配置暗場聚光器，落射照明需配置明暗場物鏡及落射暗場照明器），成像光柵光譜儀以及高靈敏度科研級 CCD 探測器構(gòu)成。
傳統(tǒng)暗場散射光譜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)由圖所示。在暗場顯微鏡的影像出口轉(zhuǎn)接光柵光譜儀，顯微鏡成像于光譜儀入口。光譜儀入口狹縫開大，選擇反射鏡替代光柵（或?qū)⒐鈻挪ㄩL設(shè)為“0”），可在光譜儀 CCD 上觀測暗場成像；選擇感興趣的顆粒使其位于視場中心，狹縫調(diào)小，光柵切換到適當(dāng)?shù)牟ㄩL位置，即可獲得暗場光譜。全新暗場散射高光譜儀可以使用高光譜相機(jī)代理顯微鏡的彩色成像相機(jī)，在不移動(dòng)樣品的情況下，得到樣品的圖像和包含每個(gè)點(diǎn)的光譜的高光譜圖像。系統(tǒng)可與傳統(tǒng)光柵光譜儀共存，引入激光和共焦光路，從而實(shí)現(xiàn)熒光或者拉曼光譜的激發(fā)。

典型配置如下：

儀器結(jié)構(gòu)

軟件與數(shù)據(jù)庫

光譜圖像處理軟件采用模塊化設(shè)計(jì)，包含圖像處理模塊和光譜識別模塊，具有非監(jiān)督分類、光譜角匹配、波形相似度匹配、光譜線性解混、光譜散度分析、光譜角和散度混合分析、波段運(yùn)算、主成分分析等功能。光譜數(shù)據(jù)庫功能包括數(shù)據(jù)庫管理與維護(hù)、數(shù)據(jù)預(yù)處理、數(shù)據(jù)查詢 / 分析、圖形顯示等功能等。

波段截取 / 提取 / 提幀功能（優(yōu)勢）：

• 可自定義選取感興趣波長范圍；

• 光譜通道數(shù)可選；

• 可實(shí)現(xiàn)任意波長范圍內(nèi)的光譜通道數(shù)量設(shè)置；

• 可通過設(shè)置波段數(shù)量來提升采集幀速；

備注：上述功能只支持可見 - 近紅外相機(jī)；

校準(zhǔn) / 反演（優(yōu)勢）：

• 每組數(shù)據(jù)可獨(dú)立存儲(chǔ)，通過軟件實(shí)現(xiàn)一鍵式反射率校準(zhǔn)；

• 可實(shí)現(xiàn)單獨(dú)、批量數(shù)據(jù)處理的處理；

• 通過輸入相應(yīng)模型，可實(shí)時(shí)輸出反演結(jié)果；

內(nèi)置電控機(jī)械快門 :

圖數(shù)據(jù)采集軟件圖數(shù)據(jù)影像

數(shù)據(jù)預(yù)處理 -Binning 裁剪、波段裁剪、圖形裁剪、格式轉(zhuǎn)換窗口 :

圖非監(jiān)督分類圖光譜角匹配與波形相似度匹配

內(nèi)置電控機(jī)械快門 :

圖光譜線性解混圖光譜角和散度混合分析

數(shù)據(jù)預(yù)處理 -Binning 裁剪、波段裁剪、圖形裁剪、格式轉(zhuǎn)換窗口 :

圖波段運(yùn)算圖 NDVI 歸一化植被指數(shù)原圖、結(jié)果圖、密度分割圖

主成分分析 :

應(yīng)用方向與實(shí)測數(shù)據(jù)

RTS2-Omni-Imager 暗場散射顯微高光譜儀突破單類別光譜儀器適用性上的局限，可應(yīng)用于量子點(diǎn)暗場散射，納米材料科學(xué)，生物科學(xué)，偽裝識別，藥品醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域，對納米尺度的物理、化學(xué)及生物過程進(jìn)行分析。

納米顆粒

• 同一視場內(nèi) 不同納米顆粒暗場散射光譜圖